【ステラソラ】コペリウス＆オリンピア理外を無凸エレノア編成で1凸攻略する立ち回りとビルド

大討伐作戦「コペリウス＆オリンピア」の理外難易度は、突破が進んでいない無凸かつモチーフ武器を持たないエレノアでも1凸討伐が可能です。水着ウィローとナツカを組み合わせ、2体のボスを密集させて範囲攻撃へ巻き込みながら、味方のバフとデバフを集中させたタイミングでエレノアの火力を叩き込むことが攻略の要となります。

本記事では、理外1凸を達成するための各キャラクターの役割分担、推奨される記録と徽章のビルド方針、ボスの誘導手順とスキル連携の具体的な立ち回りを解説します。

パーティ編成と各キャラクターの役割

エレノア本体の凸数やモチーフ武器に依存しない分、水着ウィローとナツカで火力を引き上げる構成を組みます。エレノアの攻撃タイミングに合わせてバフとデバフを重ね合わせることが前提条件です。

エレノア・サポート陣の記録と徽章ビルド

アタッカーには自身の火力を最大限高める装備を渡し、サポーター2名にはチーム全体の火力や回転率を伸ばす装備を優先して配分します。

エレノアの装備方針

モチーフ武器がない場合は武器オプションで会心ステータスを確保できないため、記録の追加効果で会心率を重点的に補います。

• 記録：会心率、会心ダメージ、属性強化を優先。会心発生を安定させた上で余剰枠を与ダメージ増加に充てます。
• 徽章：スキルダメージ上昇系を選択し、主力スキルの威力を強化します。

水着ウィロー・ナツカの装備方針

サポート陣は自身で火力を出すのではなく、スキル発動時に味方へ恩恵を与える効果を軸に選びます。

• 水着ウィロー：エネルギー回復効率を高めて必殺技の回転率を上げ、属性ダメージ補正を安定供給できるセットを装備します。
• ナツカ：味方全体の攻撃力上昇や、敵への被ダメージ増加効果を誘発する支援向けの記録・徽章を装備します。

コペリウス＆オリンピアの誘導とギミック対処

理外難易度では敵のHPが非常に高いため、コペリウスとオリンピアの2体を離れた状態で各個撃破しようとするとダメージ効率が足りず、制限時間内に削り切れません。

1. 開幕は外周へ移動して2体を誘導する

戦闘開始直後にターゲットを合わせつつ外周へ回り込み、ボスの突進や大技を誘発して2体を1か所に集めます。

1. 密集地点へ支援スキルを展開する

2体が重なった瞬間にナツカの支援スキルと水着ウィローの継続ダメージフィールドを展開し、2体同時にデバフを付与します。

1. 攻撃予兆はボスの背後へ回避する

ボスの大技予兆が見えたら回避フレームを活用して背後へ回り込み、ノックバックによる攻撃の中断や被弾を防ぎます。

ダメージを最大化するスキル連携手順

ナツカと水着ウィローの強化効果が有効な時間内にエレノアのコンボを完了させるため、スキルの発動順序を固定して立ち回ります。

1. ナツカで起点を作る

支援スキルを使用して味方全体の攻撃力・会心性能を引き上げ、敵へ弱体効果を付与します。

1. 水着ウィローで属性強化と追撃を重ねる

設置スキルや必殺技を発動し、属性ダメージ上昇効果と持続ダメージ状態を展開します。

1. エレノアのフルコンボを叩き込む

すべてのバフが重なっている数秒間にエレノアの強化スキルと必殺技を使用し、2体まとめてシールドとHPを削ります。

エレノアは攻撃モーション中に無防備になりやすいため、敵が大技を放った直後の隙を狙ってコンボを開始し、回避で中断せずに全段ヒットさせる位置取りを意識してください。

終盤の立ち回りと崩れを防ぐ注意点

ボスのHPが低下する終盤は、攻撃頻度の上昇や広範囲の連続攻撃が発生しやすくなります。削りを急いで無理にエレノアで突撃すると、被弾による戦闘不能やスキル中断でタイムロスにつながります。

• 強攻撃中は距離を取り設置スキルで削る

ボスが危険な攻撃モーションに入った際は深追いせず、水着ウィローの設置攻撃に削りを任せて安全に回避します。

• バフを再充填してからトドメを刺す

敵の体力が残りわずかであっても単独で攻撃せず、ナツカと水着ウィローのエネルギーを回収し、再びバフとデバフを揃えた状態でエレノアの火力を叩き込んで討伐を完了させます。